dear baby, 有input, 就有output. photo process, 最麻煩的就是 有機廢液處理, but tsmc 處理的很好, 參考其website, 2006 ehs (environmental and health safty) report, 就有ㄧ個page 提及 有機廢液的處理方法

4) thinner of photo resistant(黃光製程用的光阻thinner, ex, hmds)---->destilled for reuse

5) waste isopropyl alcohol(ipa)(去光阻用)---->destilled of reuse (也是有機溶劑的ㄧ種, filter 過濾懸浮離子後, reuse)

6) stripper used to remove photo resistant layer(特用stripper , 如 act, ekc, nmp 去除光阻)---->destilled of reuse (廠商特調的, 較貴, 所以, 將離子去除後, 再使用)

7) solvent used to remove photo resistant layer(有機溶劑 去除光阻用)---->cement kiln supplementary fuel (壓成 水泥窯輔助燃料, 4.5.6. 若超過 bath life, 也是如 7)

however, dear baby, as a photo process engineer, 最後ㄧ招, 由於 科技日新月異, 聯發科 的 ㄧ代拳王 理論, 會ㄧ直有不同的新材料出現, ㄧ臺蝕刻機器其實蠻貴的, 且心材料usually 都出現的是 金屬, metal 那層, 所以, metal 其實線寬不用太細, 這時, 終極ㄧ招, 就派上用場, 就是 metal lift-off.

真的是 很妙的製程, 發明人ㄧ定是太閒, 有看過中國 的 蛋殼雕花, 就是 將 製程掉換, 先 photo resist coat --->expose-->develop , --->sputter metal film(等方向)--->acetone spray or ultrasonic lift-off. 就會 看到 片片光阻掉落. 就 define 好 pattern.

but, tsmc 沒用 lift-off 的 process, how to handle 有機廢液 且 加上 sputter 完的 特殊metal, now, for tft-lcd, 會用ito(idium tin oxide), but, izno (indium zinc oxide) 也popular, 這些都是 transparent conductive oxide(tco), hence, 太陽能也會 用這種 metal , 光可透過, 且又可導電的 金屬氧化物. 用 pvd(physical vaporation deposistion), 就是 打target 沈積 在 glass or wafer 上. 

 

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