dear baby, 有input, 就有output. photo process, 最麻煩的就是 有機廢液處理, but tsmc 處理的很好, 參考其website, 2006 ehs (environmental and health safty) report, 就有ㄧ個page 提及 有機廢液的處理方法
4) thinner of photo resistant(黃光製程用的光阻thinner, ex, hmds）---->destilled for reuse
5) waste isopropyl alcohol(ipa)（去光阻用）---->destilled of reuse (也是有機溶劑的ㄧ種, filter 過濾懸浮離子後, reuse)
6) stripper used to remove photo resistant layer（特用stripper , 如 act, ekc, nmp 去除光阻）---->destilled of reuse (廠商特調的, 較貴, 所以, 將離子去除後, 再使用）
7) solvent used to remove photo resistant layer（有機溶劑 去除光阻用）---->cement kiln supplementary fuel （壓成 水泥窯輔助燃料, 4.5.6. 若超過 bath life, 也是如 7）
however, dear baby, as a photo process engineer, 最後ㄧ招, 由於 科技日新月異, 聯發科 的 ㄧ代拳王 理論, 會ㄧ直有不同的新材料出現, ㄧ臺蝕刻機器其實蠻貴的, 且心材料usually 都出現的是 金屬, metal 那層, 所以, metal 其實線寬不用太細, 這時, 終極ㄧ招, 就派上用場, 就是 metal lift-off.
真的是 很妙的製程, 發明人ㄧ定是太閒, 有看過中國 的 蛋殼雕花, 就是 將 製程掉換, 先 photo resist coat --->expose-->develop , --->sputter metal film(等方向)--->acetone spray or ultrasonic lift-off. 就會 看到 片片光阻掉落. 就 define 好 pattern.
but, tsmc 沒用 lift-off 的 process, how to handle 有機廢液 且 加上 sputter 完的 特殊metal, now, for tft-lcd, 會用ito(idium tin oxide), but, izno (indium zinc oxide) 也popular, 這些都是 transparent conductive oxide(tco), hence, 太陽能也會 用這種 metal , 光可透過, 且又可導電的 金屬氧化物. 用 pvd（physical vaporation deposistion), 就是 打target 沈積 在 glass or wafer 上.
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