dear baby,靠山山倒,靠自己最穩,ㄧ個半導體廠hireㄧ大堆人,宣董的公司還在擴,女人的青春有限,but,在cleanroom 23+-0.5c,particle free, 還有ㄧ大堆剛從台青椒畢業的young kids, 對眼睛好, move to 竹科, to have a new life. 高中學歷 就可當 operator, 當然 釣個 凱子宅男 工程師 is priority.
| PROD ID | PH | ACID-BASE | 危害性 分類 |
危害圖示 | 存放條件 | 外觀/氣味 | 狀態 | 化學品處理方式 | |
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NH4OH (clean的能力很強） but, 用時, 會dilute to 1:100 textbook 也有說明用法 |
氨水 | 強鹼性 | 強鹼性 | 8 | 腐蝕性--鹼 |
真的很臭 要抽氣櫃 |
透明/刺激的氨味 | 液體 | 廢水處理廠 濕式洗滌塔 |
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H3PO4 （也很好用, 加到97c, 去作去 nitride, but 必須用鐵氟龍槽） |
磷酸 | 1.5 | 酸性 | 8 | 腐蝕性 | 透明/無味 | 黏稠 液體 |
廢水處理廠 濕式洗滌塔 |
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H2O2 (都是須自動補充到h2so4 與h3po4 槽, 使得bath life 去sustain) |
過氧化氫 | 3.5 | 酸性 過氧化物 |
5.1，8 | 氧化性、腐蝕性 |
防止與酸類、易燃物、有機物、還原劑、自燃物品等混合儲放 very very critical |
透明/無味 | 液體 | 廢水處理廠 濕式洗滌塔 |
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HCl( typical chemical, hcl+h2o2 for spray etch) |
鹽酸 | 1.1 | 酸性 | 8 | 腐蝕性 | ㄧ硝三鹽 | 無色或淡黃色/ 刺激性嗆鼻味 |
液體 | 廢水處理廠 濕式洗滌塔 |
| IPA (pm 用） |
異丙醇 | 中性 | 中性 | 3 | 易燃性 | 擦機很好用 | 無色/輕微丙酮/ 乙醇混合味道 |
液體 | 廢有機溶劑儲存槽 活性碳吸附 |
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PI-2610 （要coat 很厚用時, mostly for backside via ) |
低感光光阻液 | ＜7 | 酸性 | 3 | 易燃性 | 紅色/芳香 | 液體 | 廢有機溶劑儲存槽 活性碳吸附 |
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| VM-652 | ＜7 | 酸性 | 3 | 易燃性 | 紅色/芳香 | 液體 | 廢有機溶劑儲存槽 活性碳吸附 |
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| NMP (strip) |
N-甲基-2-砒各酮 | 中性 | 中性 | 9 | 易燃性 | 無色/輕微胺味 | 液體 | 廢有機溶劑儲存槽 活性碳吸附 |
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BOE (typical chemical to etch si, hf with dilute ) |
二氧化矽蝕刻劑 | 強酸性 | 強酸性 | 8 | 腐蝕性 | 透明/強烈刺激味 | 液體 | 廠內暫存 濕式洗滌塔 |
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Acetic Acid(glacial) 比較mild ㄧ些 |
醋酸(冰醋酸) | 3.4 | 酸性 | 8 | 腐蝕性 | 透明/如醋之刺激性酸味 | 液體 | ||
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HBr very critical |
氫溴酸 | 強酸 | 強酸 | 8 | 腐蝕性 | 無色/有刺激、辛辣味 | 液體 | ||
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EBR-10-A edge removal for photoresist |
中性 | 中性 | 3 | 易燃性 | 透明的/甜味 | 液體 | |||
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S1813 |
正光阻液 | N.A | 3 | 易燃性 | 淡黃色/甜味 | 液體 | 廢有機溶劑儲存槽 活性碳吸附 |
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HMDS (before photoresist coating) |
六甲基二矽胺 | N.A | 3、8 | 易燃性、腐蝕性 | 透明/似氨氣 | 液體 | 廢有機溶劑儲存槽 活性碳吸附 |
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| Acetone(normal chemical) |
丙酮 | 中性 | 中性 | 3 | 易燃性 | 無色/具甜、薄荷味 | 液體 | 廢有機溶劑儲存槽 活性碳吸附 |
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Developer VLSI-237 (vlsi等級, particle free) |
正光阻顯影液 | 13.6 | 鹼 | 8 | 腐蝕性--鹼 | 無色透明/無味 | 液體 | 廢水處理廠 濕式洗滌塔 |
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MP-351(Developer) (still mild) |
正光阻顯影液 | ＞13 | 鹼 | 8 | 腐蝕性 | 無色/無味 | 液體 | 廢水處理廠 濕式洗滌塔 |
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AZP-4620 (typical photoresist) |
5.5~6.5 | 弱酸 | 3 | 易燃性 | 透明/獨特氣味 | 液體 | 廢有機溶劑儲存槽 活性碳吸附 |
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| RN901(1815) | 廢有機溶劑儲存槽 活性碳吸附 |
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| SC-4 | N.A | 廢有機溶劑儲存槽 活性碳吸附 |
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| SC-6 | N.A | 液體 | 廢有機溶劑儲存槽 活性碳吸附 |
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| Developer NMD-W 2.38% | 氫氧化四甲銨 | N.A | 8 | 腐蝕性 | 無色/ | 液體 | 廢水處理廠 濕式洗滌塔 |
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| SPR-220 | N.A | 3 | 易燃性 | 液體 | |||||
| MCPRis412M | 3-甲氧基丙酸甲基酯 | N.A | 3 | 易燃性 | 褐色/芳香氣味 | 液體 | |||
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TMAH(just for remove photoresist after expose) |
氫氧化四甲基銨 | ＞7 | 鹼 | 8 | 腐蝕性--鹼 | 無色/有氨臭味 | 液體 | 廢水處理廠 濕式洗滌塔 |
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| DS-320S | 光阻顯影液 | ＞10 | 鹼 | 8 | 腐蝕性 | 液體 | 廢水處理廠 濕式洗滌塔 |
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| NaOH(GR) | 氫氧化鈉 | 鹼 | 8 | 腐蝕性 | 白色/無味 | 固體 | 廢水處理廠 濕式洗滌塔 |
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| XYLENE C6H4(CH3)2 | 二甲苯 | 有機 | 3 | 易燃性 | 無色/芳香味 | 液體 | 廢水處理廠 濕式洗滌塔 |
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| EKC 922 or 265 |
正光阻去除液 | N.A | 8 | 腐蝕性 | 無色至微黃/胺類味 | 液體 | 廢水處理廠 濕式洗滌塔 |
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| KOH | 氫氧化鉀 | 14 | 鹼 | 8 | 腐蝕性 | 琥珀色 | 液體 | ||
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H2SO4-very common for photoresist removal) |
硫酸 | 0.3 | 酸性 | 8 | 腐蝕性 | 無色 | 液體 | ||
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