半導體是有錢人的玩意~ 我們只不過領個幾萬塊薪水, 要保護自己與同事~ 沒錢不要玩
酸槽 包括 1) 加熱酸槽 - h2so4 +h2o2 溫度我忘了, h3po4 195+-3c 2) 恆溫 or 低溫 酸槽 - boe, hf+h2o2 18+-1c~ 23c +-1c 看各公司的receipe 而定 3) 低溫鹼槽 or track - pr developer or stripper , 通常是 弱鹼, 4) 加熱有機槽 - pr remover - ekc922 - 95+-3c , 好像吧, 問代理商 5) lift-off - acetone ~stainless tank, 千萬不能有火, 機台會有 co2 滅火設備 6)spray etcher- hcl , 溫控至 23+-0.5, 像 track ㄧ樣. by wafer 7) metal etcher - metal 蝕刻液 , 問vendor, metal is al-si-cu, above 20um
1) dip (5sec~ 2min) --qdr - dryer
2) pr remover ( 30min) - qdr- dryer
3) single wafer type - track and spray etch
4) lift-off - combine lot and single , ssec provide
通常, 臺灣的廠商 的能力 是 到 光阻去除槽, 而且 filter 要特別注意, 不良廠商會用 爛貨 ~ 光清 槽 , 就很想哭~
防護裝備 ~ 防酸面罩, 防酸氣口罩.防酸圍裙, 耐酸鹼手套 ( 各槽不要混用) , 我自己會帶酸鹼試紙, 透明液體先試試看.
抽酸氣, 要分 酸, 鹼 和 有機 , 若沒有, 這最容易傷呼吸系統
排酸也是 , 分 酸, 鹼 和 有機 ~ 永遠記得 酸鹼中和 會 放熱
工作區 ~ㄧ定要有沖身洗眼設備, 且要有水, 若怕污染, 則需像 超人的電話亭~
永遠記得~ 半導體是有錢人的玩意~ 我們只不過領個幾萬塊薪水, 要保護自己與同事~ 沒錢不要玩~
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